氧化鋱靶材Tb2O3磁控濺射靶材

科研實驗專用氧化鋱靶材Tb2O3磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料產(chǎn)品介紹      氧化鋱（Tb2O3）外觀為黑褐色粉末，不溶于水，溶于酸。用于制作金屬鋱、磁光玻璃、熒光粉、磁光貯存、化工添加劑 等。產(chǎn)品參數(shù)中文名稱：氧化鋱中文別名：七氧化四鋱英文名稱：Terbium oxideCAS號：12037-01-3分子式：Tb4O7分子量：747.69700***質(zhì)量：747.66600純度 99.***PSA：95.97000[ 密度 ]: 7.3 g/mL at 25 °C(lit.)[ 熔點 ]: 2340°C[ 分子式 ]: O7Tb4[ 分子量 ]: 747.697[ ***質(zhì)量 ]: 747.665588[ PSA ]: 95.97000[ 外觀性狀 ]: 無氣味的暗棕色-黑色粉末[ 儲存條件 ]: 常溫密閉，陰涼通風干燥[ 穩(wěn)定性 ]: 常溫常壓下穩(wěn)定避免濕 酸 氧化物.不溶于水，溶于熱濃酸。支持靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價??！ 服務項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。科研單位***，質(zhì)量***，售后無憂！產(chǎn)品附件：發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設備 質(zhì)量控制：嚴格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量***材料的高純度與細小晶粒度；可提供質(zhì)檢報告。 加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫        陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導熱性差，連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！       我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。       注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！       建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。