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2024年1月31日

發(fā)布時間:2024-02-02 17:10 編輯:夏明 來源:互聯(lián)網(wǎng)
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2024年1月31日,據(jù)國家知識產(chǎn)權局公告,山東赫達集團股份有限公司申請一項名為“一種量子點/HPMC/鹵氧化鉍復合材料及其制備方法和應用“,公開號CN117463396A,申請日期為2023年12月。專利摘要顯示,本發(fā)明提供一種

2024年1月31日,據(jù)國家知識產(chǎn)權局公告,山東赫達集團股份有限公司申請一項名為“一種量子點/HPMC/鹵氧化復合材料及其制備方法和應用“,公開號CN117463396A,申請日期為2023年12月。專利摘要顯示,本發(fā)明提供一種量子點/HPMC/鹵氧化鉍復合材料及其制備方法和應用,屬于有機u001E無機復合材料技術領域,包含鹵氧化鉍、HPMC和量子點顆粒,所述HPMC緊密包裹在鹵氧化鉍納米片的表面,并通過HPMC將量子點顆粒緊密粘附在鹵氧化鉍納米片表面;通過液相剝離法從塊體中提取出量子點溶液,將HPMC溶于量子點溶液中,得到黏性膠液A,將鹵氧化鉍粉體分散于膠液A中,進行超聲后攪拌,得到懸濁膠液B,最后經(jīng)過烘干、粉碎等步驟得到成品。本發(fā)明復合材料能夠顯著提升光生載流子的轉移效率,且構建的異質結結構結合緊密、不易脫落,同時制備方法精簡,原材料易得、安全。

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