消息稱三星3nm良率翻至3倍仍不及臺(tái)積電,3月25日訊,三星致力提高3nmGAA工藝良率,近日,消息人士稱,其良率提高到原來的三倍,即3nm工藝從之前10%~20%的良率提升至30%~60%之間,但仍然落后于臺(tái)積電。隨著臺(tái)積電今年積極將3nm晶圓產(chǎn)量擴(kuò)大到每月約10萬片,三星幾乎沒有機(jī)會(huì)趕上其代工競爭對(duì)手。
備注:數(shù)據(jù)僅供參考,不作為投資依據(jù)。
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